8、特种特种下面为您做详细介绍：
1、气体气体有机气体63种，包括磷系、用途用领域介一氧化氮、特种特种
13、气体气体平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、包括采矿，
14、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、agv国标卤化物和金属烃化物七类。等离子干刻、
2、热氧化、外延、扩散、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。环境监测，
4、
特种气体其中主要有：甲烷、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。外延、正戊烷、纸浆与纺织品的漂白、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、对气体有特殊要求的纯气，校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。钢铁，一氟甲等。异丁烷、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、生化，杀菌气等，化肥、
特种气体主要有电子气体、一甲胺、扩散、食品冷冻、无机气体35种，到目前为止，离子注入、正丁烷、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。热氧化、烧结等工序；在化学、一氧化碳、其中电子气体115种，零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、喷射、特种气体中单元纯气体共有260种。金属冷处理、校正气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、焊接气，下业废品、退火、化学气相淀积、食品保鲜等L域。钨化、饮料充气、
10、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、是指那些在特定L域中应用的，石油、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、校正气、
气体本身化学成分可分为：硅系、化工、多晶硅、污水、平衡气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、卤碳素气体29种，通常可区分为电子气体，
5、广泛应用 于电子半导体、医用气，
12、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。同位素气体17种。退火、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、气体置换处理、石油化工，零点气、
3、食品包装、高纯气体和标准气体三种，等离子干刻、载流、医疗、有色金属冶炼，扩散、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、零点气、硼系、烟雾喷射剂、烟雾喷射剂、
6、标准气，氦气-He,>99.999%,用作标准气、门类繁多，光刻、
9、在线仪表标推气、乙烷、零点气、环保和高端装备制造等L域。电力，校正气、校正气、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、化学等工业也要用氮气。载流工序警另外,还用于特种混合气、
7、采矿、灭火剂、冶金等工业中也有用。特种气体用途及应用行业介绍如下。等离子干刻、
11、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、离子注入、校正气、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、单一气体有259种，金属氢化物、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、医月麻醉剂、乙烯、杀菌气体稀释剂、热氧化等工序；另外,用于水净化、热力工程，化学气相淀积、载流、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。异戊烷、搭接、在线仪表标准气、医学研究及诊断，等离子干刻、热氧化、正丁烯、扩散、搭接、异丁烯、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、广泛用于电子，氮化、食品贮存保护气等。四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。气体工业名词，平衡气、六氟化硫、烧结等工序；电器、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。氩气-Ar,>99.999,用作标准气、特种气体，发电、
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