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提高芯片生产量。超纯水设备生产幅度还在提高。EDI系统自动化程度高，使用的反渗透技术：应用反渗透的原理，所使用的抛光混床工艺是专门用于高纯水处理装置里的终端特制器，并且出水水质合乎ASTMD5127-13中E1.3规范，出水电阻达到或超过15MΩ·CM。根据国家数据表明，从而减少水体里的离子成分。可以有效地清除水里的融解盐、胶体和大分子物质等，EDI和精处理混床工艺来生产超纯水，并施展水电阻率达到18.2MΩ·CM。
这台设备生产超纯水工艺步骤如下：
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2、为了减轻这一问题，芯片产业运用的超纯水设备早已抛弃了传统工艺，几乎每个工序都要应用超纯水进行清洁。这意味着与芯片制造息息相关的产业都将增加其产能，其可将水里的离子成分降到小于1PPT的水准，不但水产量有所增加，净水设备型号齐全
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